近日发布的《全球专利创新活动研究报告2016》显示，中国已成为仅次于美国的专利布局目标市场。日本、美国高度关注中国市场，两国在华授权发明专利份额约占整个中国市场授权量的1/5。

　　该报告对2008年至2015年全球专利创新活动进行了系统梳理，并对世界主要科技发达国家的技术创新活动进行了对比研究和分析。报告指出，2008年至2015年，中国发明专利公开量和授权量年均增长率分别为20.97%与22.48%，中国国内的技术创新强势推动了全球专利技术创新的增长势头。

　　报告显示，2012年至2015年，在世界知识产权组织划分的35个技术领域中，中国在测量、有机精细化学等13个技术领域中的发明专利授权量位居第一。

　　报告指出，在成为仅次于美国的全球第二大专利布局目标市场的形势下，我国的专利技术创新仍面临挑战，专利数量与质量不协调、专利技术创新的区域发展不平衡等难题亟待解决。报告为我国市场的专利技术创新活动提出参考建议：一是坚持政策扶持和战略引领，提升我国技术创新质量；二是鼓励各地基于地区优势有针对性地进行技术创新和专利布局；三是提倡产业界和学界深入交流和合作研发，共同推进专利产学研结合；四是优化新形势下我国专利信息工作，为专利技术创新提供支撑。

　　《全球专利创新活动研究报告》是国家知识产权局“基于专利信息全球技术创新活动研究”专题课题组的重大研究成果，自2014年首次发布以来，为了解和掌握全球主要国家特别是中国的专利创新活动提供了重要参考。（知识产权报记者：韩瑞）