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《中国发明与专利》改版通知暨征稿函

发布时间:2020-10-29
责任编辑:王雪
来源:中国发明与专利杂志

摘要:《中国发明与专利》杂志拟于2021年第1期进行全面改版,将以知识产权情报学为主要研究探讨对象,打造成知识产权领域(包括专利、商标、版权、地理标志、植物新品种、集成电路布图设计、传统知识、标准等)高端学术核心期刊。

尊敬的知识产权情报学相关领域研究论文作者:

  为了更好地服务于我国知识产权强国建设和创新型国家建设,填补国内外在知识产权情报学理论研究与实践探索所需要的学术期刊载体的空白,《中国发明与专利》杂志拟于2021年第1期进行全面改版,将以知识产权情报学为主要研究探讨对象,打造成知识产权领域(包括专利、商标、版权、地理标志、植物新品种、集成电路布图设计、传统知识、标准等)高端学术核心期刊,所属学科为情报学。

  一、刊载内容

  改版后,《中国发明与专利》杂志刊载的论文内容是基于知识产权的情报学研究论文,就学科交叉而言,主要涉及知识产权情报学理论与方法、知识产权信息管理和知识产权数据处理三大领域。同时,还涉及基于专业的知识产权情报理论方法,分析研究国内外创新发展方方面面的社会聚焦的重大问题。论文形式主要是以知识产权情报学为主要研究内容的学术论文、高质量综述评论以及最新实践进展研究等。

  二、投稿方式

  欢迎知识产权情报学、知识产权信息管理和知识产权数据处理等领域的高校教师、情报学研究专家、信息工程研究人员、企业管理人员、知识产权管理人员、博士生、硕士生踊跃投稿。本刊改版初期免收版面费,并将向作者支付适当的稿酬。关于投稿须知和稿件要求,请登录《中国发明与专利》杂志唯一投稿网站:http://fmyz.cbpt.cnki.net

  三、组建编委及学术生态圈

  为了充分发挥编委专家在组稿、供稿、策划、组织参与活动过程中的关键性作用,我们正在组建学术专家组成的编委会,欢迎专家、学者在向本刊投稿的同时推荐或自荐。

  今后,《中国发明与专利》杂志将顺应知识产权信息理论和实践的需要,在国际上独树知识产权情报学研究的旗帜,填补国内外在知识产权情报学领域研究的空白。我们将致力于成为该领域的组织者、承载者和传播者,把该领域理论研究者、实践者、管理者的学术研究成果向国际传播。今后本刊在征稿和编辑过程中,将不断扩大知识产权情报学学术生态圈,构建学术团体,适时在中国知识产权年会上举办首届国际知识产权情报学论坛,还将组织召开不同形式的学术交流活动。因此,应学界之呼、时代之唤,我们将致力于建立知识产权情报学学术生态圈。

  我们热忱希望与有志于此事业的专家同仁携手共进,共同打造国内、国际知识产权情报学的学术高地。

  咨询电话:010-62086429、62086450、62086468

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